產品中心
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應用范圍：GPH-DHDO通過1/4英寸不銹鋼管和兩個閥連接兩個氣體凈化器（一個用于脫氧，另一個用于脫濕），可以安裝到任何MTI氣體混合系統。 它在室溫操作下將氣態雜質減少到亞ppm級。 它從任何99.9％純度的惰性氣體（氮氣，氬氣，氦氣，氪氣，氖氣和氙氣）和氫氣中的H2O，O2和CO2中去除H2O，O2，CO，CO2，H2和NMCH至<0.1ppm。 更重要的是，它具有可以加熱到300℃的加熱加熱器，以便在設備中容易地再生脫氧和脫水化學品，以便長期使用。 產品型號 ：GPH-DHDO 安裝尺寸：445*400*190mm
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QL-500是一款緊湊，重量輕，節省成本效益，能源節約型的先進的氫氣發生器。它可以在不加任何堿性物質的情況下通過電解純凈水產生超高純度的氫氣。它可以連續地產生高純度的氫氣，速率可達到500 ml/min，并有數字顯示計顯示流量，調節閥調節流量，超壓**保護裝置。這款氫氣發生器是材料研究，熱處理，氣相色譜分析中用來產生氫氣的理想設備。
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LVD-F1是一款專門針對實驗室中CVD實驗中導入液體的一套系統，其液體流量是通過一數字液體泵來控制，*大流量為10ml/min。液體被蠕動泵導入到混氣系統后，被系統里的加熱裝置加熱成蒸汽，然后隨導入的氣體被帶入到爐管中。LVD-F1能夠導出多種液體，比如ETOH, SnCl4, TiCl4r, SiHCl3, 和Zn(C2H5)2，還有多種有機物混合。對于研究用CVD方法生長納米線和薄膜LVD-F1是一款優良的研究設備。
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GSL-4Z是一款多路質量流量計控制系統，其質量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜*大可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數管式爐配套使用時，可將管式爐置于移動柜上以節約空間。各通道氣路的流量設定和狀態顯示都集中在一6"的觸摸屏上，同時可以實時查看氣體流量曲線和數據。此款設備廣泛的用于材料界中CVD實驗和各種材料的退火實驗。
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GSL-4Z可以用于控制一種到四種的氣體流經真空密封的管式爐，這種氣體控制系統安裝在移動架上，管式爐可以放在GSL-4Z的上面，氣體控制系統的前面板上有控制并顯示氣體流量的調節閥。結合科晶集團的管式爐，它可以用于CVD系統及退火爐，用來研究氣體環境對材料的影響。
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GSL-3Z可以用于控制一種到三種的氣體流經真空密封的管式爐，這種氣體控制系統安裝在移動架上，管式爐可以放在GSL-4Z的上面，氣體控制系統的前面板上有控制并顯示氣體流量的調節閥。結合科晶集團的管式爐，它可以用于CVD系統及退火爐，用來研究氣體環境對材料的影響。
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GSL-3F-PTFE是一款三通道防腐蝕型混氣系統，氣體通過的所有部分全部都是由聚四氟乙烯材料制作（閥、管道、混氣罐和浮子流量計），此款設備設計專門針對于需要通入腐蝕性氣體（如H2S、H2Se）的CVD實驗。
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GSL-2Z可以用于控制一種或兩種的氣體流經真空密封的管式爐，這種氣體控制系統安裝在移動架上，管式爐可以放在GSL-2Z的上面，氣體控制系統的前面板上有控制并顯示氣體流量的調節閥。結合科晶集團的管式爐，它可以用于CVD系統及退火爐，用來研究氣體環境對材料的影響。
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氣液混合罐BL-200特別適用于在CVD實驗中將液相蒸汽帶入到反應腔中。此混合罐的主體采用316不銹鋼制作，罐體上部安裝有進氣出氣口和一個機械壓力表，兩個不銹鋼截止閥分別安裝在進氣和出氣口上，兩接頭都采用Φ6.35卡套接頭，使得罐內可承受氣壓可以承受到0.15Mpa（在正壓環境下液體蒸汽量提高），同時罐體可承受溫度可以達到250℃。